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超聲波清洗設(shè)備兩大分類及其特點(diǎn)

點(diǎn)擊次數(shù):2775 更新時(shí)間:2012-08-28

超聲波清洗設(shè)備一般可分為通用和兩種機(jī)型。

1、通用超聲波清洗機(jī)
超聲波清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)一般有超聲電源和清洗器合為一體或分開布局兩種形式,一般小功率(200W以下)清洗機(jī)用一體式結(jié)構(gòu),而大功率清洗機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu)。
超聲波清洗機(jī)分體式結(jié)構(gòu)由三個(gè)主要部分組成(1)清洗缸;(2)超聲波發(fā)生器;(3)超聲波換能器。
清洗缸:清洗缸是用來裝載清洗液及被清洗工件的不銹鋼容器,大多數(shù)工件可先裝在網(wǎng)狀框架內(nèi),再一起放人缸內(nèi)清洗。
超聲波發(fā)生器:超聲清洗機(jī)用的超聲波發(fā)生器,從使用的元器件種類可以分電子管式的,可控硅式的和晶體管式的。近幾年來已經(jīng)發(fā)展到用大功率“功率模塊”的方式。其輸出功率從幾十瓦直到幾千瓦,工作頻率從15kHz-40kHz。
超聲波清洗機(jī)用的超聲波發(fā)生器,有以下特點(diǎn):
(1)隨著清洗液深度不同,換能器共振頻率和阻抗變化很大。但是實(shí)踐表明,槽內(nèi)放進(jìn)適量清洗物后,基本上就可以穩(wěn)定在某一定數(shù)值上。
(2)一般來說,由于清洗負(fù)載變動較小,可以不要求復(fù)雜的頻率自動跟蹤電路。
(3)實(shí)用超聲波發(fā)生器,大多數(shù)采用大功率自激式反饋振蕩器。
超聲波換能器:超聲波清洗機(jī)用的換能器。
主要有以下幾種:
①磁致伸縮換能器國內(nèi)用的磁致伸縮換能器大多數(shù)是用鎳片疊成的窗口型換能器,將它銀焊在清洗缸底部,然后用導(dǎo)線在窗口上繞一定卷數(shù)而成。此種換能器能承受較大功率,且可靠性好,使用壽命長。缺點(diǎn)為效率較壓電換能器低,原材料鎳片價(jià)格貴。
②壓電式換能器目前國內(nèi)外大多數(shù)超聲波清洗機(jī)用的是壓電式換能器。這種換能器一般有兩片壓電陶瓷晶片組成。一臺清洗機(jī)用多個(gè)換能器,經(jīng)粘接劑粘接在清洗缸底部且經(jīng)并聯(lián)聯(lián)接組成一臺清洗機(jī)的換能器。換能器基元之間距(對于頻率20kH4一般在5-10mm為佳,太大了容易產(chǎn)生彎曲振動,且振動板受到腐蝕,同時(shí)輻射面相對減少。通用超聲清洗機(jī)清洗零件適用性強(qiáng),已廣泛應(yīng)用于電子、鐘表、光學(xué)、機(jī)械、汽車、航空、原子能工業(yè)、醫(yī)療器械等許多行業(yè)。

2、超聲波清洗機(jī)
一般安裝在某些特定物件清洗的生產(chǎn)流水線上。
典型的軟磁器件超聲波清洗設(shè)備介紹:被清洗物件從進(jìn)料口可傳動的不銹鋼網(wǎng)帶送人超聲波清洗槽清洗,再經(jīng)噴淋、烘干等工序后出料,實(shí)現(xiàn)被清洗物件可直接包裝入庫。
各工序簡要說明如下:
①進(jìn)料:物件進(jìn)料可采用半自動進(jìn)料
②壓電式換能器目前國內(nèi)外大多數(shù)超聲波清洗機(jī)用的是壓電式換能器,勘L形結(jié)構(gòu)。這種換能器一般有兩片壓電陶瓷晶片組成。一臺清洗機(jī)用多個(gè)換能器,經(jīng)粘接劑粘接在清洗缸底部且經(jīng)并聯(lián)聯(lián)接組成一臺清洗機(jī)的換能器。換能器基元之間距(對于頻率20kH4一般在5-10mm為佳,太大了容易產(chǎn)生彎曲振動,且振動板受到腐蝕,同時(shí)輻射面相對減少。
通用超聲清洗機(jī)清洗零件適用性強(qiáng),已廣泛應(yīng)用于電子、鐘表、光學(xué)、機(jī)械、汽車、航空、原子能工業(yè)、醫(yī)療器械等許多行業(yè)。超聲波清洗機(jī)一般安裝在某些特定物件清洗的生產(chǎn)流水線上。典型的軟磁器件超聲波清洗設(shè)備,被清洗物件從進(jìn)料口可傳動的不銹鋼網(wǎng)帶送人超聲波清洗槽清洗,再經(jīng)噴淋、烘干等工序后出料,實(shí)現(xiàn)被清洗物件可直接包裝入庫。
各工序簡要說明如下:
①進(jìn)料:物件進(jìn)料可采用半自動進(jìn)料或出料:物件出料可采用自動收料或手工收料方式,格被清洗物件裝入包裝盒內(nèi)。通過上述工序就完成了物件實(shí)現(xiàn)利用超聲波清洗的全過程。

目前,還有一種超聲汽相清洗機(jī),它是選用有機(jī)溶劑作清洗液,具有*的溶解污垢的能力,用于清洗半導(dǎo)體晶片等凈治度要求特別高的物件。